켐트로닉스가 반도체와 디스플레이 제조 공정 핵심 용제인 PGMEA를 본격 양산한다. 포토레지스트(PR) 제조에 필수적인 원료로, 업계 최고 수준의 순도로 구현했다. 생산 규모를 확대하기 위해 설비 투자를 단행한다.

켐트로닉스는 지난해 개발한 초고순도 PGMEA의 양산 규모를 현재 연 1만톤 수준에서 2025년 연 2만5000톤 수준으로 증량하기 위해 170억원 추가 투자를 결정했다.

회사는 2020년과 지난해에도 친환경·초고순도 PGMEA 정제 설비를 구축하기 위해 투자한 바 있다.

PGMEA는 반도체 노광 공정에 활용되는 PR 원료의 70~80%를 차지하는 주요 용제다. PR 하단에 코팅되는 반사방지막과 패턴 미세화에 따른 에칭 공정 중 PR 붕괴를 막는 지지층 역할을 하는 스핀-온-하드마스크(SOH)의 용제로도 활용된다. 불필요한 PR을 제거하는 데 사용되는 시너의 주원료이기도 하다.

켐트로닉스가 생산하는 PGMEA는 99.999%(5N) 초고순도를 자랑한다. 초고순도 용제는 극자외선(EUV) PR 결함을 제어하는 데 유리하다.

※[숏잇슈]는 'Short IT issue'의 준말로 AI가 제작한 숏폼 형식의 뉴스입니다.

김영호 기자 [email protected]